伟字图案

伟字楷书

金融界2024年3月13日消息，据国家知识产权局公告，三星电子株式会社取得一项名为“集成电路器件及其制造方法“授权公告号CN110911416B,申请日期为2019年6月。专利摘要显示，一种集成电路器件包括字线结构、绝缘结构、沟道孔和电荷捕获图案。字线结构和绝缘结构彼此交错后面会介绍。 金融界2024年3月12日消息，据国家知识产权局公告，三星电子株式会社取得一项名为“半导体器件“授权公告号CN109473473B,申请日期为2018年9月。专利摘要显示，本公开提供了半导体器件。一种半导体器件包括：多个第一半导体图案，垂直堆叠在衬底上并彼此垂直间隔开；以及第一栅小发猫。